用于制備空氣橋的掩膜

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120519829.8 申請日 -
公開（公告）號 CN214378328U 公開（公告）日 2021-10-08
申請公布號 CN214378328U 申請公布日 2021-10-08
分類號 H01L21/027（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 李廣亮;馬亮亮;尤兵;王念慈;鄭杰;劉文書 申請（專利權(quán)）人 合肥本源量子計算科技有限責任公司
代理機構(gòu) - 代理人 -
地址 230088安徽省合肥市合肥市高新區(qū)創(chuàng)新大道2800號創(chuàng)新產(chǎn)業(yè)園二期E2樓六層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請公開了用于制備空氣橋的掩膜，屬于量子器件、傳統(tǒng)集成電路加工技術領域。它包括沿著共面波導傳輸線的信號傳輸方向等間距分布的圖案單元，所述圖案單元包括：橋撐，所述橋撐位于待連接區(qū)域之間，且用于承載沉積的材料以形成空氣橋面；及沉積窗，所述沉積窗暴露出所述橋撐，且所述沉積窗和所述橋撐之間形成用于暴露出所述待連接區(qū)域的間隙，所述間隙用于限定沉積的材料以形成與所述空氣橋面連接的橋墩。本申請解決現(xiàn)有技術中的不足，它能夠用于制備橫跨共面波導傳輸線的空氣橋。