一種終端結(jié)構(gòu)、半導(dǎo)體器件及制作方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110651513.9 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113299745A | 公開(公告)日 | 2021-08-24 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113299745A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-24 |
分類號(hào) | H01L29/40 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 李偉聰;林泳浩;姜春亮;王雯沁 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 珠海市浩辰半導(dǎo)體有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 深圳市嘉勤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 帥進(jìn)軍 |
地址 | 519000 廣東省珠海市高新區(qū)唐家灣鎮(zhèn)軟件園路1號(hào)會(huì)展中心1#四層5單元 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請(qǐng)公開了一種終端結(jié)構(gòu)、半導(dǎo)體器件及制作方法,終端結(jié)構(gòu)包括第一導(dǎo)電類型的漂移區(qū),漂移區(qū)設(shè)置有溝槽、第一導(dǎo)電類型的摻雜區(qū)和第二導(dǎo)電類型的第一體區(qū),溝槽為階梯型,包括第一深度區(qū)和第二深度區(qū);第一深度區(qū)填充有介電材料,介電材料中插入有第一電極,第二深度區(qū)填充有多晶硅場(chǎng)板;第一摻雜區(qū)上設(shè)置有第二電極,第二電極分別與多晶硅場(chǎng)板和第一電極連接。該階梯型溝槽的終端結(jié)構(gòu),多晶硅場(chǎng)板構(gòu)成一級(jí)場(chǎng)板,可以防止第一體區(qū)與漂移區(qū)形成的PN結(jié)被提前擊穿,第一電極構(gòu)成二級(jí)場(chǎng)板,可以防止第一深度區(qū)的底部角落處被提前擊穿,該終端結(jié)構(gòu)的溝槽表面電場(chǎng)分布更加均勻,在提升終端結(jié)構(gòu)耐壓的同時(shí),使終端結(jié)構(gòu)的面積大幅減小。 |
