一種實現(xiàn)共軸的電子束成像設備及實現(xiàn)方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110810762.8 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113539769A | 公開(公告)日 | 2021-10-22 |
申請公布號 | CN113539769A | 申請公布日 | 2021-10-22 |
分類號 | H01J37/26;H01J37/28;G02B21/24 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 趙焱 | 申請(專利權)人 | 蘇州矽視科技有限公司 |
代理機構 | 南京常青藤知識產權代理有限公司 | 代理人 | 史慧敏 |
地址 | 215000 江蘇省蘇州市中國(江蘇)自由貿易試驗區(qū)蘇州片區(qū)蘇州工業(yè)園區(qū)現(xiàn)代大道88號物流大廈(112)-68室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種實現(xiàn)共軸的電子束成像設備,包括電子源,用于發(fā)射主電子束;聚光鏡,用于調節(jié)束張角,即將所述電子源發(fā)射的電子束進行會聚;限制膜孔,用于限制雜散電子和束流;物鏡,用于將入射的主電子束聚焦到樣品表面;探測器,用于收集電子經由光電轉換形成圖像;工作臺,用于承載樣品并將待測區(qū)域移動定位至光軸下方;光學顯微鏡,用于對待測區(qū)域成像定位并關聯(lián)電子光學光軸所對應的位置。本發(fā)明配置折射面,將光學顯微鏡物方光路導入電子光學光路,實現(xiàn)共軸或平行,同時折射面成為樣品表面激發(fā)出的信號電子的轟擊罷免,通過二次電子探測器或環(huán)形探測器接收檢測,進而根據檢測結果調節(jié)光學顯微鏡位置實現(xiàn)并行同位成像,或先后成像。 |
