一種高純水溶性硅片清洗劑及其制備方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111620195.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN114317128A | 公開(公告)日 | 2022-04-12 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN114317128A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-04-12 |
分類號(hào) | C11D1/29(2006.01)I;C11D1/72(2006.01)I;C11D3/60(2006.01)I;C11D3/37(2006.01)I;C11D3/22(2006.01)I;C11D3/20(2006.01)I | 分類 | 動(dòng)物或植物油、脂、脂肪物質(zhì)或蠟;由此制取的脂肪酸;洗滌劑;蠟燭; |
發(fā)明人 | 張傳好;周勵(lì);紀(jì)招君 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上?;瘜W(xué)試劑研究所有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上??剖⒅R(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 蔣亮珠 |
地址 | 200333上海市普陀區(qū)真北路401號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種高純水溶性硅片清洗劑及其制備方法,包括以下重量百分比的組分:表面活性劑5~10%、聚合物助洗劑5~15%、助溶劑1~5%、增強(qiáng)劑25~40%和高純水35~50%。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明底漆VOC含量低,且漆膜干性快,韌性好,早期耐水性能佳,防腐性能優(yōu)異,另外,本發(fā)明清洗劑主要用于拋光后硅片清洗及擦片工序,主要祛除硅片在加工過程中表面沾染的潤(rùn)滑劑、灰塵及其它污物。是一種無毒、無害、安全、無污染的清洗劑。 |
