一種蝕刻液
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110613475.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN113215573A | 公開（公告）日 | 2021-08-06 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN113215573A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-08-06 |
| 分類號(hào) | C23F1/30 | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 李海濤 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 肇慶微納芯材料科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京開陽(yáng)星知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 丁繼恩 |
| 地址 | 526200 廣東省肇慶市四會(huì)市江谷鎮(zhèn)精細(xì)化工區(qū)創(chuàng)業(yè)路1號(hào)甲類廠房編號(hào)5 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及一種蝕刻液，用于平板顯示制程中銀納米線透明導(dǎo)電膜的蝕刻處理，屬于金屬材料表面處理技術(shù)領(lǐng)域。所述蝕刻液包含無(wú)機(jī)酸、有機(jī)酸、無(wú)機(jī)酸鹽、表面活性劑、助劑和去離子水，所述助劑含有苯并咪唑類化合物，其結(jié)構(gòu)式如下：其中，R1為C1?C5的直鏈或者支鏈烷烴；R2為氫、C5?C12芳環(huán)基、C5?C12單環(huán)基、C5?C12二環(huán)基或C5?C12三環(huán)基取代基；Ar為苯、萘或蒽結(jié)構(gòu)取代基。該蝕刻液能夠高效地對(duì)銀納米線透明導(dǎo)電膜進(jìn)行蝕刻，同時(shí)較好地解決了金屬銀析出的問(wèn)題。 |
