一種等離子體耦合吸附VOCs的裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201821682731.9 申請日 -
公開（公告）號 CN209173674U 公開（公告）日 2019-07-30
申請公布號 CN209173674U 申請公布日 2019-07-30
分類號 B01D53/04（2006.01）I; B01D53/32（2006.01）I 分類 一般的物理或化學的方法或裝置;
發(fā)明人 劉華剛 申請（專利權）人 福州美美環(huán)?？萍加邢薰?/a>
代理機構 福州盈創(chuàng)知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 福州美美環(huán)?？萍加邢薰?/td>
地址 350012 福建省福州市晉安區(qū)新店鎮(zhèn)赤橋路228號1號樓生產樓第二層廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公布了一種等離子體耦合吸附VOCs的裝置，包括凈化吸附筒體、進氣管和出氣管，等離子體放電部的下方設有半導體吸附筒，半導體吸附筒通過螺栓組件固定在凈化吸附筒體的內部左右側面，半導體吸附筒的內部填充半導體耦合吸附顆粒。本實用新型在半導體吸附筒的外壁面設有蜂窩孔，并且半導體吸附筒的內部填充半導體耦合吸附顆粒，半導體耦合吸附顆粒為氧化鋁或者二氧化鈦半導體，能夠有效地吸附VOCs，從而等離子體放電部在進行電離降解時能夠電離充分，無需二次回流電離降解，解決了現(xiàn)有技術的等離子體吸附VOCs的裝置在進入等離子降解裝置后無法穩(wěn)定停留，導致需要多次流通降解，降解速率較慢的技術問題。