一種酞菁共晶及其制備方法和應(yīng)用
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010360104.9 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111471051B | 公開(公告)日 | 2021-12-10 |
申請公布號 | CN111471051B | 申請公布日 | 2021-12-10 |
分類號 | C07D487/22;C07F7/28;G03G5/04 | 分類 | 有機化學(xué)〔2〕; |
發(fā)明人 | 謝錦樓;林日彬 | 申請(專利權(quán))人 | 廣州安國科技股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 顏希文 |
地址 | 510663 廣東省廣州市高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)科學(xué)城天泰一路2號自編一、二棟二樓全層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種酞菁共晶及其制備方法和應(yīng)用。所述酞菁共晶是由氧鈦酞菁和不含金屬的酞菁形成的共晶,其中,氧鈦酞菁和不含金屬的酞菁的重量比為99:1?1:99。本發(fā)明的酞菁共晶具有比較高的感光度,可作為光生電材料用于制備電子照相成像元件的生電層,且電子照相成像元件的感光度可根據(jù)酞菁共晶中氧鈦酞菁和不含金屬的酞菁的重量比而連續(xù)可調(diào)。 |
