一種精密研磨拋光裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201910818577.6 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN110549214A | 公開(公告)日 | 2021-06-11 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN110549214A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-11 |
分類號(hào) | B24B27/00;B24B37/10;B24B1/00;B24B37/34;B24B37/32;B24B41/02;B24B41/06 | 分類 | 磨削;拋光; |
發(fā)明人 | 肖歡平 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 廈門松鼠精密科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廈門福貝知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 郝學(xué)江 |
地址 | 361000 福建省廈門市火炬高新區(qū)(翔安)產(chǎn)業(yè)區(qū)翔安北路3699號(hào)高新大廈621A室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 公開了一種精密研磨拋光裝置,其包括包括底座、用于保持工件的保持架、研磨盤和拋光盤,研磨盤設(shè)置于底座上,拋光盤被吊置研磨盤上方,保持架被架設(shè)在研磨上,保持架上設(shè)置有滾柱以使得被放置在研磨盤上的工件在研磨盤上能夠形成自轉(zhuǎn),拋光盤進(jìn)一步被設(shè)置為使得其旋轉(zhuǎn)軸線和工件的自轉(zhuǎn)軸線相互偏離一定距離,同時(shí)拋光盤至少接觸工件的一部分。通過研磨盤、拋光盤與工件的相對(duì)位置和旋轉(zhuǎn)加工方式的設(shè)置,提高研磨拋光的精密度和加工效率。 |
