一種低壓ESD保護器件
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202021225257.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN212750895U | 公開(公告)日 | 2021-03-19 |
申請公布號 | CN212750895U | 申請公布日 | 2021-03-19 |
分類號 | H01L27/06(2006.01)I;H01L27/02(2006.01)I;H01L21/8222(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 楊玨琳;宋文龍;李澤宏;張鵬 | 申請(專利權)人 | 成都吉萊芯科技有限公司 |
代理機構 | 南京正聯(lián)知識產權代理有限公司 | 代理人 | 查鑫利 |
地址 | 610000四川省成都市自由貿易試驗區(qū)成都高新區(qū)世紀城南路599號6棟5層505號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種低壓ESD保護器件,包括N型單晶材料層、N+多晶硅、N型基區(qū)、P型基區(qū),N型單晶材料層上依次設置第一層隔離介質、第一金屬層、第二層隔離介質、第二金屬層,N+多晶硅、N型基區(qū)、P型基區(qū)均設于N型單晶材料層頂部,N+多晶硅內設有P+源區(qū)、N+源區(qū),外部與N型單晶材料層之間設有熱氧化層,N型基區(qū)內設有P+源區(qū),P型基區(qū)內依次設有P+源區(qū)、N+源區(qū)、N+源區(qū)、P+源區(qū)。本實用新型降低了芯片成本;不增加元胞尺寸,減小了芯片面積占用;通過優(yōu)化器件尺寸,超低殘壓,適用于低壓系統(tǒng)的超高速信號的防護,同時通過版圖優(yōu)化可以實現(xiàn)雙向ESD保護,為低壓系統(tǒng)的超高速信號的雙向防護提供一種解決方案。?? |
