磁控濺射鍍膜設(shè)備及ITO玻璃的制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | 2020111377350 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN112251727A | 公開(公告)日 | 2021-01-22 |
申請公布號 | CN112251727A | 申請公布日 | 2021-01-22 |
分類號 | C23C14/35(2006.01)I; | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 朱汪根;張見平;許波;胡松;吳俊保;馮治國 | 申請(專利權(quán))人 | 凱盛信息顯示材料(黃山)有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 昆明合眾智信知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 | 代理人 | 葉春娜 |
地址 | 245400安徽省黃山市休寧縣經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)高新電子信息產(chǎn)業(yè)園孵化器 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種磁控濺射鍍膜設(shè)備及ITO玻璃的制備方法,包括鍍膜室,所述底座板上固定設(shè)置有液壓缸和兩個支撐桿,所述弧形吸附墊套設(shè)在筒狀磁控靶材中;所述完全齒輪的側(cè)面嚙合設(shè)置有單齒齒輪;所述齒輪盤上固定設(shè)置有實心隔板和中空隔板,所述中空隔板中對稱活動設(shè)置有滑桿,所述滑桿遠(yuǎn)離齒輪盤圓心的一側(cè)固定設(shè)置有清潔刷,所述推桿固定于弧形電磁板上,所述中空隔板的中心處設(shè)置有電磁桿。本發(fā)明提供了磁控濺射鍍膜設(shè)備,靶材可以隨著工件的旋轉(zhuǎn)間歇性地轉(zhuǎn)動一定角度,也可以調(diào)整其傾斜角度,適應(yīng)多種鍍膜需要,且屏蔽罩間距可調(diào),可在濺射鍍膜的同時清潔濺射通道,本發(fā)明還提供了上述磁控濺射鍍膜設(shè)備的ITO玻璃的制備方法,非常值得推廣。?? |
