連續(xù)真空磁控濺射鍍膜裝置及鍍膜生產(chǎn)線
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | 2020111394939 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN112251728A | 公開（公告）日 | 2021-01-22 |
| 申請公布號 | CN112251728A | 申請公布日 | 2021-01-22 |
| 分類號 | C23C14/35(2006.01)I; | 分類 | 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 朱汪根;張見平;許波;胡松;吳俊保;馮治國 | 申請（專利權(quán)）人 | 凱盛信息顯示材料（黃山）有限公司 |
| 代理機構(gòu) | 昆明合眾智信知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 | 代理人 | 周勇 |
| 地址 | 245400安徽省黃山市休寧縣經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)高新電子信息產(chǎn)業(yè)園孵化器 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種連續(xù)真空磁控濺射鍍膜裝置及鍍膜生產(chǎn)線，包括交替鍍膜單元和變速轉(zhuǎn)動單元，所述正極接電環(huán)板和負(fù)極接電環(huán)板間活動設(shè)置有相對的濺射靶一和濺射靶二，所述從轉(zhuǎn)齒輪一和從轉(zhuǎn)齒輪二的輪齒互補，所述驅(qū)動轉(zhuǎn)桿上固定連接有若干大小不同的變速轉(zhuǎn)輪，所述調(diào)節(jié)桿兩側(cè)開設(shè)有空槽，所述空槽內(nèi)部固定設(shè)置有調(diào)節(jié)機構(gòu)，本發(fā)明在使用中，通過正極接電環(huán)板和負(fù)極接電環(huán)板的設(shè)置，實現(xiàn)對帶鍍膜件的兩側(cè)進(jìn)行交替鍍膜并中和靶面上積累的陽離子，并通過多個大小不同的變速轉(zhuǎn)輪、多個主轉(zhuǎn)齒輪二和調(diào)節(jié)機構(gòu)的設(shè)置，使得帶鍍膜件兩側(cè)的鍍膜厚度不同，滿足不同的工藝要求，擴大裝置的應(yīng)用范圍。?? |
