鍍膜玻璃及其制造方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011139491.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN112194380A | 公開(kāi)（公告）日 | 2021-01-08 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112194380A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-01-08 |
| 分類(lèi)號(hào) | C03C17/34 | 分類(lèi) | 玻璃；礦棉或渣棉; |
| 發(fā)明人 | 朱汪根;張見(jiàn)平;許波;胡松;吳俊保;馮治國(guó) | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 凱盛信息顯示材料（黃山）有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 昆明合眾智信知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 | 代理人 | 葉春娜 |
| 地址 | 245400 安徽省黃山市休寧縣經(jīng)濟(jì)開(kāi)發(fā)區(qū)高新電子信息產(chǎn)業(yè)園孵化器 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)鍍膜玻璃及其制造方法：所述鍍膜玻璃由玻璃基片及依次濺鍍?cè)谄浔砻娴腟i3N4層、MgF2層、Bi2Te3/TIN復(fù)合層、ITO層；其中，Si3N4層厚度為15～35nm，MgF2層厚度為10～30m、Bi2Te3/TIN復(fù)合層厚度為10～30nm、ITO層厚度為30～60nm；其制造方法包括以下步驟：S1：表面處理；S2：磁控濺射Si3N4層；S3：磁控濺射MgF2層；S4：磁控濺射Bi2Te3/TIN復(fù)合層；S5：磁控濺射ITO層。本發(fā)明鍍膜玻璃具有優(yōu)良的機(jī)械強(qiáng)度、耐磨性能、光透性，由于四層鍍層的折射率不同，應(yīng)用于各類(lèi)顯示器時(shí)，光源透過(guò)不同介質(zhì)層發(fā)生多次反復(fù)折射和反射。 |
