一種降氧拉晶工藝和石英坩堝
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111305898.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113981525A | 公開(公告)日 | 2022-01-28 |
申請公布號 | CN113981525A | 申請公布日 | 2022-01-28 |
分類號 | C30B15/00(2006.01)I;C30B15/10(2006.01)I;C30B29/06(2006.01)I;C30B15/02(2006.01)I;C30B15/20(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 黃晶晶;吳剛;鞠貴冬;王新強 | 申請(專利權(quán))人 | 雙良硅材料(包頭)有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 秦曉君 |
地址 | 014062內(nèi)蒙古自治區(qū)包頭市稀土開發(fā)區(qū)濱河新區(qū)翠湖路35號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種降氧拉晶工藝和石英坩堝。通過對初次投放的硅料進行化料時,通入氬氣,并通過爐壓控制控制爐壓為預(yù)設(shè)爐壓;再將爐壓控制關(guān)閉,打開主泵,復(fù)投硅料;然后再復(fù)投硅料結(jié)束后,間隔第二預(yù)設(shè)時間,將爐壓控制閉環(huán),通過上述公開的降氧拉晶工藝,能夠加快高溫化料期間所產(chǎn)生的揮發(fā)物排出,減少SiO附著在排氣管道,避免因SiO附著在排氣管道使產(chǎn)生的SiO不能及時排出,保證排氣管道能夠順暢排氣,進而能夠減少揮發(fā)物中的SiO溶于液態(tài)硅中,降低液態(tài)硅中含氧量,避免進行氧反切,有效提高成晶率,從而提高產(chǎn)能。 |
