一種紫外和可見光敏感的陽圖型可成像元件及其形成圖像的方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010035664.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111123646A | 公開(公告)日 | 2020-05-08 |
申請公布號 | CN111123646A | 申請公布日 | 2020-05-08 |
分類號 | G03F7/004;G03F7/09 | 分類 | 攝影術(shù);電影術(shù);利用了光波以外其他波的類似技術(shù);電記錄術(shù);全息攝影術(shù)〔4〕; |
發(fā)明人 | 陶烴;翁銀巧;徐能平;高邈;應作挺;馬顯瑤;潘楓;常士旺 | 申請(專利權(quán))人 | 浙江康爾達新材料股份有限公司 |
代理機構(gòu) | 溫州甌越專利代理有限公司 | 代理人 | 浙江康爾達新材料股份有限公司 |
地址 | 325000 浙江省溫州市工業(yè)園區(qū)機場大道929號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供了一種紫外和可見光敏感的陽圖型可成像元件,所述的可成像元件包含:(a)底基、(b)覆蓋在底基上方的內(nèi)涂層、(c)覆蓋在內(nèi)涂層上方的外涂層。所述的內(nèi)涂層包含一種衍生自馬來酰亞胺單體和丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺單體的重復單元、并且可溶于堿性顯影液的聚合物粘結(jié)劑P;所述的外涂層包含一種光敏劑和不同于內(nèi)涂層的另一種聚合物粘合劑Q。如此設(shè)計使得該可成像元件不僅可對最大波長為350~450 nm的輻射敏感,而且當其用作平版印刷版前體時對化學溶劑具有良好的耐抗性,在使用過程中不易發(fā)生被印刷化學品侵蝕、溶解的現(xiàn)象,從而有利于延長平版印刷版的使用壽命。 |
