沉積設(shè)備以及旋轉(zhuǎn)裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201320360851.8 申請日 -
公開（公告）號 CN203346474U 公開（公告）日 2013-12-18
申請公布號 CN203346474U 申請公布日 2013-12-18
分類號 C23C16/458(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 黃允文 申請（專利權(quán)）人 光壘光電科技（上海）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 鄭瑋
地址 200050 上海市長寧區(qū)延安西路889號1106B室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及沉積設(shè)備，該沉積設(shè)備包括反應(yīng)腔，所述反應(yīng)腔內(nèi)具有用于帶動襯底旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)臺；用于帶動所述旋轉(zhuǎn)臺轉(zhuǎn)動的旋轉(zhuǎn)裝置，所述旋轉(zhuǎn)裝置包括：支撐座、筒狀外殼以及旋轉(zhuǎn)支撐軸，所述筒狀外殼一端連接所述支承座上，另一端連接所述反應(yīng)腔，所述旋轉(zhuǎn)支撐軸套設(shè)在所述筒狀外殼內(nèi)，所述旋轉(zhuǎn)支撐軸的一端伸入到所述反應(yīng)腔中，并與所述反應(yīng)腔中的所述旋轉(zhuǎn)臺連接，所述筒狀外殼內(nèi)嵌設(shè)有旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括一對配合使用的定子和轉(zhuǎn)子，所述定子安裝于所述筒狀外殼的內(nèi)壁，所述轉(zhuǎn)子安裝于所述旋轉(zhuǎn)支撐軸上。本實(shí)用新型還提供一種旋轉(zhuǎn)裝置。本實(shí)用新型的所述旋轉(zhuǎn)驅(qū)動機(jī)構(gòu)可以設(shè)置于所述筒狀外殼內(nèi)，結(jié)構(gòu)簡單，安裝、維護(hù)方便。