一種用于化學氣相沉積工藝的襯底及石墨盤

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201320326603.1 申請日 -
公開（公告）號 CN203346473U 公開（公告）日 2013-12-18
申請公布號 CN203346473U 申請公布日 2013-12-18
分類號 C23C16/458(2006.01)I;C23C16/00(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 田益西 申請（專利權）人 光壘光電科技（上海）有限公司
代理機構 深圳市銘粵知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 楊林;馬翠平
地址 200050 上海市長寧區(qū)延安西路889號1106B室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供用于化學氣相沉積工藝的石墨盤和襯底，其特征在于：所述襯底形狀呈扇形，為了能夠利用現(xiàn)有的圓形襯底制作，扇形襯底的扇形圓心角為360°/N，N為大于等于2且小于等于6的自然數(shù)。本實用新型還提出了一種石墨盤，具有襯底承載面，所述襯底承載面設有用于容置所述襯底的收容槽。本實用新型提供的扇形襯底在石墨盤上可以排列的比圓形襯底更為緊密，提高了石墨盤的利用率，提高了化學氣相沉積設備的產(chǎn)量；且相對于多邊形襯底，本實用新型提供的扇形襯底可以由一個圓形襯底分割而成，既便于加工制作，又避免襯底材料的浪費，降低了生產(chǎn)成本，滿足了應用的要求。