進氣管道以及進氣裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201320504654.9 申請日 -
公開（公告）號 CN203513793U 公開（公告）日 2014-04-02
申請公布號 CN203513793U 申請公布日 2014-04-02
分類號 C23C16/455(2006.01)I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 譚華強;喬徽;林翔;蘇育家 申請（專利權(quán)）人 光壘光電科技（上海）有限公司
代理機構(gòu) 上海思微知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 鄭瑋
地址 200050 上海市長寧區(qū)延安西路889號1106B室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種進氣管道以及包括所述進氣管道的進氣裝置。所述進氣管道具有進氣口和出氣口，所述進氣管道還包括導(dǎo)流件，設(shè)置在所述進氣口朝向氣體腔室的一端，所述導(dǎo)流件能夠使得來自氣體腔室的反應(yīng)氣體從第一方向漸變至第二方向并進入所述進氣口，經(jīng)過氣體管道的出氣口流向所述反應(yīng)區(qū)域。由于導(dǎo)流件的存在，使得反應(yīng)氣體能夠較為緩和的流出出氣口，因此反應(yīng)區(qū)域的氣體場的穩(wěn)定性和均勻性都能夠得到有效的改善，進而對襯底膜層的生長有著較大的改善。