一種臥式多靶真空濺射或離子鍍膜機(jī)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201310177002.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN103290373B 公開(kāi)（公告）日 2016-09-14
申請(qǐng)公布號(hào) CN103290373B 申請(qǐng)公布日 2016-09-14
分類號(hào) C23C14/34(2006.01)I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 周小平;翁惠軍;楊慶忠 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 寧波韻升裝備技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 寧波天一專利代理有限公司 代理人 寧波韻升股份有限公司;寧波韻升機(jī)電設(shè)備有限公司;寧波韻升磁體元件技術(shù)有限公司;寧波韻升裝備技術(shù)有限公司
地址 315040 浙江省寧波市高新區(qū)揚(yáng)帆路1號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種臥式多靶真空濺射或離子鍍膜機(jī)，包括鍍膜機(jī)爐體、鍍膜機(jī)中的傳動(dòng)輸出部件、弧靶、濺射靶、真空抽吸口和工件架，鍍膜機(jī)爐體內(nèi)分為二個(gè)區(qū)域，區(qū)域一布置多個(gè)弧靶，多個(gè)弧靶設(shè)置在鍍膜機(jī)爐體的下方靠近鍍膜機(jī)爐體內(nèi)壁，區(qū)域二布置多個(gè)濺射靶，多個(gè)濺射靶設(shè)置在鍍膜機(jī)爐體中心上方的對(duì)應(yīng)工件架中空位置的鍍膜機(jī)爐體內(nèi)腔中，工件架設(shè)置放置工件的轉(zhuǎn)動(dòng)件和動(dòng)力輸入機(jī)構(gòu)，工件架進(jìn)入鍍膜機(jī)爐體內(nèi)時(shí)轉(zhuǎn)動(dòng)件可以在弧靶和濺射靶之間通過(guò)，工件架的動(dòng)力輸入機(jī)構(gòu)與鍍膜機(jī)中的傳動(dòng)輸出部件耦合而帶動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)件轉(zhuǎn)動(dòng)，鍍膜機(jī)爐體中心或靠近中心設(shè)有真空抽吸口。本發(fā)明有效防止弧靶與濺射靶的相互污染，提高了鍍層效率和鍍層質(zhì)量。