一種激光直接成像設(shè)備成像位置誤差的測量方法及系統(tǒng)
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201910534140.X | 申請日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN110320762B | 公開（公告）日 | 2021-08-13 |
| 申請公布號(hào) | CN110320762B | 申請公布日 | 2021-08-13 |
| 分類號(hào) | G03F7/20（2006.01）I | 分類 | 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕; |
| 發(fā)明人 | 尤勇;嚴(yán)孝年 | 申請（專利權(quán)）人 | 合肥芯碁微電子裝備股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 合肥天明專利事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 奚華保 |
| 地址 | 230088安徽省合肥市高新區(qū)創(chuàng)新大道2800號(hào)創(chuàng)新產(chǎn)業(yè)園二期F3樓11層 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種激光直接成像設(shè)備成像位置誤差的測量方法及系統(tǒng)，屬于印刷電路板圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)領(lǐng)域，包括：將待檢測的拼接誤差測量圖形輸入至激光直接成像設(shè)備；在激光直接成像設(shè)備的曝光工作臺(tái)上放置一塊基板，并將拼接誤差測量圖形的形貌投影在所述基板上，以對基板進(jìn)行曝光成像；將投影成像后的基板固定在可測量MARK圓中心坐標(biāo)的測量設(shè)備上，并利用測量設(shè)備測量出三個(gè)MARK圓的中心坐標(biāo)；根據(jù)三個(gè)MARK圓的中心坐標(biāo)，計(jì)算拼接誤差測量圖形的拼接處誤差。本發(fā)明極大的提高了測量效率和測量準(zhǔn)確性，并且適用范圍較大。 |
