光刻機及光刻機的壓板裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202120650873.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN214375824U | 公開(公告)日 | 2021-10-08 |
申請公布號 | CN214375824U | 申請公布日 | 2021-10-08 |
分類號 | G03F7/20(2006.01)I | 分類 | 攝影術;電影術;利用了光波以外其他波的類似技術;電記錄術;全息攝影術〔4〕; |
發(fā)明人 | 胡剛;陳東;項宗齊 | 申請(專利權)人 | 合肥芯碁微電子裝備股份有限公司 |
代理機構 | 北京景聞知識產權代理有限公司 | 代理人 | 曹雪榮 |
地址 | 230088安徽省合肥市高新區(qū)創(chuàng)新大道2800號創(chuàng)新產業(yè)園二期F3樓11層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型公開了一種光刻機,包括主機體、工作臺、壓板裝置。主機體上設有光路模塊、驅動模塊,工作臺的上表面形成為用于放置工件的放置區(qū);光路模塊與工作臺的放置區(qū)相對設置,工作臺與主機體連接,且工作臺和光路模塊中的至少一個與驅動模塊連接,以使光路模塊能夠相對于放置區(qū)在水平方向移動。壓板裝置與主機體固定,且壓板裝置位于光路模塊的至少一側,壓板裝置與放置區(qū)相對設置,壓板裝置被構造成為以非接觸方式對位于工作臺上的工件施加以抵壓放置區(qū)的作用力。由此,使壓板裝置靠近光路模塊的工作區(qū)域,工作臺上的工件穩(wěn)定性更高。非接觸式的壓板裝置避免了工件表面可能存在的劃痕或者交叉污染,提高了工件的良率,簡化了光刻機的結構。 |
