一種激光直寫成像設(shè)備內(nèi)層基板的對準(zhǔn)定位方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910534147.1 申請日 -
公開（公告）號 CN110308621B 公開（公告）日 2021-09-17
申請公布號 CN110308621B 申請公布日 2021-09-17
分類號 G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 董帥;王勇 申請（專利權(quán)）人 合肥芯碁微電子裝備股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 合肥天明專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 奚華保
地址 230088安徽省合肥市高新區(qū)創(chuàng)新大道2800號創(chuàng)新產(chǎn)業(yè)園二期F3樓11層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明是一種激光直寫成像設(shè)備內(nèi)層基板的對準(zhǔn)定位方法，該方法采用內(nèi)層基板上四個端角上的四個通孔作為正反面曝光時的定位標(biāo)識，曝光正面（A面）時，通過設(shè)備中的對位相機(jī)抓取這四個通孔的中心點(diǎn)坐標(biāo)（吸盤），反推出四個通孔靶標(biāo)中心在正面（A面）圖形坐標(biāo)系中的坐標(biāo)值，然后將通孔靶標(biāo)中心在圖形坐標(biāo)系中的坐標(biāo)值作為反面（B面）對位時的參考坐標(biāo)進(jìn)行對位曝光。本發(fā)明避免了現(xiàn)有技術(shù)中成像質(zhì)量受顯色性等因素影響而造成的對準(zhǔn)失敗，有效提高了激光直寫成像設(shè)備內(nèi)層基板對準(zhǔn)定位的準(zhǔn)確度。