一種激光直接成像設(shè)備正反面成像對位誤差的檢測方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910100091.9 申請日 -
公開（公告）號 CN109597283B 公開（公告）日 2021-08-13
申請公布號 CN109597283B 申請公布日 2021-08-13
分類號 G03F7/20;G03F9/00;G01B11/03 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 尤勇;嚴孝年;楊坤倫 申請（專利權(quán)）人 合肥芯碁微電子裝備股份有限公司
代理機構(gòu) 合肥天明專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 苗娟;奚華保
地址 230088 安徽省合肥市高新區(qū)創(chuàng)新大道2800號創(chuàng)新產(chǎn)業(yè)園二期F3樓11層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明的一種激光直接成像設(shè)備正反面成像對位誤差的檢測方法，可解決現(xiàn)有的檢測方法效率低下而且檢測精度低的技術(shù)問題。包括S10、向產(chǎn)品的A面圖形邊緣添加對位檢測標記MARK?A；S20、向產(chǎn)品的B面圖形邊緣添加對位檢測標記MARK?B，MARK?A與MARK?B中心對齊；S30、向產(chǎn)品基板的對稱兩板邊固定兩條與基板等厚度的透明材質(zhì)；S40、安裝并調(diào)試基板；S50、對基板A面進行曝光成像；S60、對基板進行左右翻版；S70、對基板B面進行曝光成像；S80、CCD圖像處理系統(tǒng)抓取MARK?A中心坐標；S90、CCD圖像處理系統(tǒng)抓取MARK?B中心坐標；S100、計算MARK?A與MARK?B中心坐標誤差值。本發(fā)明省去了化學(xué)顯影化學(xué)蝕刻化學(xué)退膜和X?Ray照射、顯微鏡測量等步驟，提高了檢測效率和準確性。