一種利用氣體團(tuán)簇濺射靶材引出離子束流的方法及離子源

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910047089.X 申請日 -
公開（公告）號 CN109786204A 公開（公告）日 2021-01-26
申請公布號 CN109786204A 申請公布日 2021-01-26
分類號 H01J37/34;H01J37/08;C23C14/46 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 曾曉梅;瓦西里·帕里諾維奇;謝爾蓋·別雷赫;亞歷山大·托斯托古佐夫;付德君 申請（專利權(quán)）人 武漢江海行納米科技有限公司
代理機構(gòu) 武漢華旭知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 代理人 邱琳
地址 523808 廣東省東莞市松山湖園區(qū)禮智路3號1棟123室
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種利用氣體團(tuán)簇濺射靶材引出離子束流的方法，首先利用氣體團(tuán)簇離子源產(chǎn)生氣體重團(tuán)簇；接著氣體重團(tuán)簇轟擊納米靶材，濺射出靶物質(zhì)，包括單體和小團(tuán)簇；最后濺射出的單體、小團(tuán)簇與電子碰撞被電離成離子，離子經(jīng)過電場加速并進(jìn)行磁質(zhì)分離獲得離子束流。本發(fā)明同時提供了一種基于所述方法的氣體團(tuán)簇濺射固體離子源，包括由依次連通的氣體團(tuán)簇離子源管段、濺射室和靶材原子濺射管段組成的真空腔室，所述靶材原子濺射管段依次設(shè)有第一離化器、第一加速器、單透鏡和電磁鐵。本發(fā)明提供的一種利用氣體團(tuán)簇濺射靶材引出離子束流的方法及離子源，成本低、安全可靠、無污染，能在不使用銫和鉭絲的情況下獲得離子束。