一種磁場(chǎng)可變電弧調(diào)整沉積裝置

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201721554216.8 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN207596948U 公開（公告）日 2018-07-10
申請(qǐng)公布號(hào) CN207596948U 申請(qǐng)公布日 2018-07-10
分類號(hào) C23C14/32 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 付德君;李娜;曾曉梅 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 武漢江海行納米科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 武漢智權(quán)專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 王維
地址 430000 湖北省武漢市大學(xué)園路20號(hào)普天科技園1樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種磁場(chǎng)可變電弧調(diào)整沉積裝置，涉及真空物理氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域，該裝置包括支撐桿、陰極靶材和組件。陰極靶材固定于所述支撐桿一端。組件組設(shè)于支撐桿上，且所述組件包括線圈和電流調(diào)節(jié)裝置，所述電流調(diào)節(jié)裝置用于調(diào)節(jié)線圈內(nèi)部電流大小，使所述陰極靶材在表面收到的磁場(chǎng)保持不變。本實(shí)用新型的驅(qū)動(dòng)件通過不斷調(diào)整線圈電流的大小，保證了陰極靶材表面的磁場(chǎng)穩(wěn)定不變，從而控制電弧位置強(qiáng)度，形狀，最終使得靶材能夠準(zhǔn)確穩(wěn)定的沉積在工件表面。