一種適用于高頻電刀的疏水性硬質(zhì)涂層及其制備方法
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202010996873.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN112144021B | 公開（公告）日 | 2022-05-13 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN112144021B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-05-13 |
| 分類號(hào) | C23C14/32（2006.01）I;C23C14/16（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
| 發(fā)明人 | 馬洋;陳超;康強(qiáng) | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 寧波云涂科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 | 代理人 | - |
| 地址 | 315191浙江省杭州市鄞州區(qū)姜山鎮(zhèn)雁湖路721號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開了一種適用于高頻電刀的疏水性硬質(zhì)涂層及其制備方法，屬于疏水涂層領(lǐng)域。本發(fā)明的制備方法，包括：（1）以高頻電刀為基體，采用多弧離子鍍?yōu)R射Cr靶，在所述基體上沉積Cr層；（2）采用多弧離子鍍?yōu)R射Cr靶、TiAl靶，濺射離子與濺射腔體內(nèi)的N2反應(yīng)，在Cr層上沉積CrTiAlN，同時(shí)采用射頻磁控濺射PTFE靶，得到共濺射的CrTiAlN?PTFE涂層，共濺射完成后得到適用于高頻電刀的疏水性硬質(zhì)涂層。發(fā)明的制備方法，采用多弧離子鍍和磁控濺射復(fù)合設(shè)備進(jìn)行涂層沉積，能夠充分發(fā)揮兩種兩種物理氣相沉積方法的優(yōu)勢：多弧離子鍍制備涂層沉積速率快，結(jié)合力強(qiáng)；磁控濺射可制備非金屬涂層，涂層致密均勻。 |
