一種用于磁控濺射實(shí)現(xiàn)管件產(chǎn)品高熱梯度薄膜沉積的裝置及其工作方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210007574.6 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN114525484A 公開（公告）日 2022-05-24
申請公布號(hào) CN114525484A 申請公布日 2022-05-24
分類號(hào) C23C14/35（2006.01）I;C23C14/50（2006.01）I;C23C14/56（2006.01）I 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 馬洋;張星翔;宋輝;張穎;陸曉峰;康強(qiáng);鄔健培 申請（專利權(quán)）人 寧波云涂科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 寧波協(xié)眾智庫專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 -
地址 315000浙江省寧波市鄞州區(qū)姜山鎮(zhèn)雁湖路721號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請涉及電鍍領(lǐng)域，更具體地涉及一種用于磁控濺射實(shí)現(xiàn)管件產(chǎn)品高熱梯度薄膜沉積的裝置及其工作方法，所述用于磁控濺射實(shí)現(xiàn)管件產(chǎn)品高熱梯度薄膜沉積的裝置包括一自旋裝置，所述自旋裝置被用于安裝一長管產(chǎn)品，其中所述自旋裝置包括一第一連接件，所述第一連接件的頂部具有一進(jìn)水口，且所述第一連接件的側(cè)壁具有一出水口，且所述第一連接件具有一進(jìn)水管和一出水管；一管體；一第二轉(zhuǎn)動(dòng)件，所述第二轉(zhuǎn)動(dòng)件具有一通孔，所述長管產(chǎn)品與所述通孔背離所述管體的一端可拆卸連接；以及一冷卻裝置，所述進(jìn)水口和所述出水口均與所述冷卻裝置相連。本發(fā)明通過有效地利用其自身的結(jié)構(gòu)配置實(shí)現(xiàn)能鍍膜長管產(chǎn)品、結(jié)構(gòu)簡單、使用便捷的優(yōu)勢。