一種用于磁控濺射實現(xiàn)管件產(chǎn)品高熱梯度薄膜沉積的裝置及其工作方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202210007574.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114525484A | 公開(公告)日 | 2022-05-24 |
申請公布號 | CN114525484A | 申請公布日 | 2022-05-24 |
分類號 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 馬洋;張星翔;宋輝;張穎;陸曉峰;康強;鄔健培 | 申請(專利權(quán))人 | 寧波云涂科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 寧波協(xié)眾智庫專利代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 315000浙江省寧波市鄞州區(qū)姜山鎮(zhèn)雁湖路721號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請涉及電鍍領(lǐng)域,更具體地涉及一種用于磁控濺射實現(xiàn)管件產(chǎn)品高熱梯度薄膜沉積的裝置及其工作方法,所述用于磁控濺射實現(xiàn)管件產(chǎn)品高熱梯度薄膜沉積的裝置包括一自旋裝置,所述自旋裝置被用于安裝一長管產(chǎn)品,其中所述自旋裝置包括一第一連接件,所述第一連接件的頂部具有一進水口,且所述第一連接件的側(cè)壁具有一出水口,且所述第一連接件具有一進水管和一出水管;一管體;一第二轉(zhuǎn)動件,所述第二轉(zhuǎn)動件具有一通孔,所述長管產(chǎn)品與所述通孔背離所述管體的一端可拆卸連接;以及一冷卻裝置,所述進水口和所述出水口均與所述冷卻裝置相連。本發(fā)明通過有效地利用其自身的結(jié)構(gòu)配置實現(xiàn)能鍍膜長管產(chǎn)品、結(jié)構(gòu)簡單、使用便捷的優(yōu)勢。 |
