一種展青霉素磁性分子印跡聚合物的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910521330.8 申請日 -
公開（公告）號 CN110156941B 公開（公告）日 2021-11-30
申請公布號 CN110156941B 申請公布日 2021-11-30
分類號 C08F292/00（2006.01）I;C08F226/06（2006.01）I;C08F222/14（2006.01）I;C08J9/26（2006.01）I;B01J20/26（2006.01）I;B01J20/30（2006.01）I 分類 有機(jī)高分子化合物；其制備或化學(xué)加工；以其為基料的組合物;
發(fā)明人 佘永新;邵華;趙民娟;王淼;何亞薈;鄭鷺飛;金芬;王靜 申請（專利權(quán)）人 中國農(nóng)業(yè)科學(xué)院
代理機(jī)構(gòu) 北京德崇智捷知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 董柏雷
地址 101299 北京市平谷區(qū)平三路3號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種展青霉素磁性分子印跡聚合物，本發(fā)明可以通過磁分離技術(shù)和分子印跡識別技術(shù)實(shí)現(xiàn)農(nóng)產(chǎn)品中對展青霉素的專一性識別、高效分離及富集的應(yīng)用，具有良好的吸附和分離性能，能夠?qū)崿F(xiàn)對展青霉素的特異性吸附。