一種用于ZnO壓敏電阻片的無機(jī)高阻釉的制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111520422.8 申請日 -
公開（公告）號 CN114213007A 公開（公告）日 2022-03-22
申請公布號 CN114213007A 申請公布日 2022-03-22
分類號 C03C8/00（2006.01）I;C04B41/86（2006.01）I;H01C7/112（2006.01）I 分類 玻璃；礦棉或渣棉;
發(fā)明人 施利毅;余文琪;任鑫;姚政 申請（專利權(quán)）人 上海大學(xué)（浙江·嘉興）新興產(chǎn)業(yè)研究院
代理機(jī)構(gòu) 北京眾達(dá)德權(quán)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 潘行
地址 314000浙江省嘉興市南湖區(qū)亞太路906號16號樓2樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本申請涉及電工材料制備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于ZnO壓敏電阻片的無機(jī)高阻釉的制備方法，所述方法包括：得到金屬氧化物；將金屬氧化物、無機(jī)溶劑和第一分散劑進(jìn)行混合并研磨，得到第一粉體；將第一粉體進(jìn)行破碎，得到第二粉體；將所述第二粉體、有機(jī)物水分散液和第二分散劑混合并進(jìn)行研磨，得到第一混合漿料；將所述第一混合漿料涂覆于ZnO壓敏電阻片側(cè)面，得到涂覆有無機(jī)高阻釉的ZnO壓敏電阻片，其中，以質(zhì)量分?jǐn)?shù)計，所述金屬氧化物包括：ZnO：80％?89％，Bi2O3：0.3％?1％，Sb2O3：8％?11％，Cr2O3：1％?3％，MnO2：2％?4％，NiO：0.5％?2％，MgO：1％?2％和Al2O3：0.5％?1.5％。無機(jī)高阻釉配方體系生成了復(fù)合鎂鋁尖晶石，可以限制涂層中ZnO晶粒的長大，讓電流不易從ZnO壓敏電阻片側(cè)面通過，提高了ZnO壓敏電阻片的耐大電流沖擊能力。