一種具有旋轉(zhuǎn)功能的基片清洗設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120306358.2 申請日 -
公開（公告）號 CN214417179U 公開（公告）日 2021-10-19
申請公布號 CN214417179U 申請公布日 2021-10-19
分類號 B08B3/12（2006.01）I;B08B13/00（2006.01）I;F26B21/00（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 冀然 申請（專利權(quán)）人 青島天仁微納科技有限責任公司
代理機構(gòu) 山東重諾律師事務(wù)所 代理人 王鵬里
地址 266109山東省青島市城陽區(qū)城陽街道祥陽路106號青島未來科技產(chǎn)業(yè)園6號廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種具有旋轉(zhuǎn)功能的基片清洗設(shè)備，框架的內(nèi)部裝配有排液排氣單元，框架內(nèi)腔中部固定裝配有旋轉(zhuǎn)真空臺盤，框架內(nèi)部左側(cè)裝配有清洗單元，排液排氣單元上部底面裝配有風洗單元；超聲波發(fā)生器產(chǎn)生高能聲波，通過超聲振板傳遞到清洗液中，清洗液分子在這種聲波的推動下作加速運動，連續(xù)沖擊基片表面，使基片表面吸附的顆粒等污染物離開基進入溶液中；方案利用清洗單元清洗完成后，可以通過風洗單元對基片進行吹干，防止二次污染；方案采用旋轉(zhuǎn)真空臺盤吸附固定基片，旋轉(zhuǎn)真空臺盤能夠傾斜某個角度，相比基片保持水平放置清洗，基片傾斜，基片表面的顆粒物更容易從基片上隨清洗液流走。