一種可控制納米壓印膠層厚度的納米壓印設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120671232.5 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214409580U 公開（公告）日 2021-10-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN214409580U 申請(qǐng)公布日 2021-10-15
分類號(hào) G03F7/00（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 冀然 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 青島天仁微納科技有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 山東重諾律師事務(wù)所 代理人 王鵬里
地址 266109山東省青島市城陽區(qū)城陽街道祥陽路106號(hào)青島未來科技產(chǎn)業(yè)園6號(hào)廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種可控制納米壓印膠層厚度的納米壓印設(shè)備，所述PET承載單元的下方設(shè)有固定設(shè)有圓形基片承載單元，操作臺(tái)上固定安裝有厚度控制單元，且厚度控制單元分為相同的兩組分別位于圓形基片承載單元的兩側(cè)，所述PET承載單元的下端右側(cè)固定安裝有PET，所述圓形基片承載單元的上端固定安裝有基片。因?yàn)樾坑玫哪z體要滿足良好的流動(dòng)性，保證結(jié)構(gòu)填充完整，一般會(huì)添加溶劑導(dǎo)致其無法填充較深的納米結(jié)構(gòu)，所以無法旋涂勻膠的方式獲得均勻的大于10微米的膠層的問題，本實(shí)用新型能夠精確控制壓印膠層的最終厚度，并保證整片膠層厚度的均勻性。