一種具有自清潔結(jié)構(gòu)的納米壓印設(shè)備

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202120306910.8 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN214375809U 公開（公告）日 2021-10-08
申請(qǐng)公布號(hào) CN214375809U 申請(qǐng)公布日 2021-10-08
分類號(hào) G03F7/00（2006.01）I;B01D46/00（2006.01）I;B01D46/12（2006.01）I;B01D53/00（2006.01）I;H05F3/04（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 冀然 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 青島天仁微納科技有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 山東重諾律師事務(wù)所 代理人 王鵬里
地址 266109山東省青島市城陽(yáng)區(qū)城陽(yáng)街道祥陽(yáng)路106號(hào)青島未來(lái)科技產(chǎn)業(yè)園6號(hào)廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種具有自清潔結(jié)構(gòu)的納米壓印設(shè)備，包括框架，框架上固定裝配有過(guò)濾排氣單元，過(guò)濾排氣單元上部底面裝配有驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)，過(guò)濾排氣單元下部頂面固定裝配有真空泵，真空泵上端固定裝配有臺(tái)盤，驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)下端和框架上裝配有清潔單元，臺(tái)盤和清潔單元與真空泵匹配使用；方案采用高過(guò)濾排氣單元保證設(shè)備內(nèi)部空氣從上到下進(jìn)行過(guò)濾循環(huán)，提高設(shè)備使用時(shí)的潔凈度；方案采用清潔單元將臺(tái)盤上的粘連的灰塵清理下來(lái)，并將重新掉落在臺(tái)盤上的灰塵顆粒吸走，實(shí)現(xiàn)徹底的清潔效果；去離子風(fēng)扇可產(chǎn)生大量的正負(fù)電荷中和靜電，消除靜電，防止產(chǎn)生二次污染。