一種基于光學(xué)透明基材進(jìn)行雙面圖案化的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111114879.9 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113867108A 公開(kāi)（公告）日 2021-12-31
申請(qǐng)公布號(hào) CN113867108A 申請(qǐng)公布日 2021-12-31
分類號(hào) G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 郭景華;王鈞;江建國(guó) 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 浙江鑫柔科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京市中倫律師事務(wù)所 代理人 王奕勛
地址 314500浙江省嘉興市桐鄉(xiāng)市烏鎮(zhèn)鎮(zhèn)經(jīng)發(fā)路302號(hào)9幢一層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種基于光學(xué)透明基材進(jìn)行雙面圖案化的方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：（1）提供具有UV阻隔功能的光學(xué)透明基材；（2）在所述光學(xué)透明基材的兩個(gè)表面上涂覆光阻材料；以及（3）將涂覆有所述光阻材料的所述光學(xué)透明基材在UV光的照射下曝光并進(jìn)行顯影，以得到雙面圖案化的光學(xué)透明基材。本發(fā)明所提供的基于光學(xué)透明基材進(jìn)行雙面圖案化的方法可以避免從基材一邊照射的UV光引起基材另一邊的光阻材料發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)，繼而實(shí)現(xiàn)一次性曝光實(shí)現(xiàn)雙面圖案化；并且所用到基材均為可卷對(duì)卷生產(chǎn)材料，從光阻材料的涂覆、材料的曝光、后續(xù)工藝皆可卷對(duì)卷，一次流程完成，這不僅顯著提高了生產(chǎn)效率，且明顯降低了生產(chǎn)成本。