一種基于光學透明基材進行雙面圖案化的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111114879.9 申請日 -
公開（公告）號 CN113867108A 公開（公告）日 2021-12-31
申請公布號 CN113867108A 申請公布日 2021-12-31
分類號 G03F7/20（2006.01）I 分類 攝影術；電影術；利用了光波以外其他波的類似技術；電記錄術；全息攝影術〔4〕;
發(fā)明人 郭景華;王鈞;江建國 申請（專利權）人 浙江鑫柔科技有限公司
代理機構 北京市中倫律師事務所 代理人 王奕勛
地址 314500浙江省嘉興市桐鄉(xiāng)市烏鎮(zhèn)鎮(zhèn)經發(fā)路302號9幢一層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種基于光學透明基材進行雙面圖案化的方法，其特征在于，所述方法包括以下步驟：（1）提供具有UV阻隔功能的光學透明基材；（2）在所述光學透明基材的兩個表面上涂覆光阻材料；以及（3）將涂覆有所述光阻材料的所述光學透明基材在UV光的照射下曝光并進行顯影，以得到雙面圖案化的光學透明基材。本發(fā)明所提供的基于光學透明基材進行雙面圖案化的方法可以避免從基材一邊照射的UV光引起基材另一邊的光阻材料發(fā)生光化學反應，繼而實現(xiàn)一次性曝光實現(xiàn)雙面圖案化；并且所用到基材均為可卷對卷生產材料，從光阻材料的涂覆、材料的曝光、后續(xù)工藝皆可卷對卷，一次流程完成，這不僅顯著提高了生產效率，且明顯降低了生產成本。