燒堿生產(chǎn)用循環(huán)水超低排放系統(tǒng)
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202021255795.8 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN212894268U | 公開（公告）日 | 2021-04-06 |
| 申請公布號(hào) | CN212894268U | 申請公布日 | 2021-04-06 |
| 分類號(hào) | C02F9/06(2006.01)I | 分類 | 水、廢水、污水或污泥的處理; |
| 發(fā)明人 | 趙金川;周光振;徐延全;烏中良 | 申請（專利權(quán)）人 | 茌平信發(fā)華興化工有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 濟(jì)南譽(yù)琨知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 袁彤彤 |
| 地址 | 252100山東省聊城市茌平縣樂平鎮(zhèn) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型屬于燒堿加工應(yīng)用設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種燒堿生產(chǎn)用循環(huán)水超低排放系統(tǒng)。包括與循環(huán)水連接的循環(huán)水管以及與原水連接的原水管，所述循環(huán)水管連通有冷水塔，所述冷水塔的出水端和原水管的出水端連通有冷水池，所述冷水塔的出水端通過原水管與冷水池連通，所述原水管和冷水池之間沿水流方向還設(shè)置有過濾裝置、EDR頻繁倒極電滲析裝置以及EWST電化學(xué)水處理裝置，所述過濾裝置包括沿水流方向依次設(shè)置的物理過濾罐以及反滲透過濾裝置。本實(shí)用新型通過在傳統(tǒng)循環(huán)水排放系統(tǒng)中增加物理過濾罐、反滲透過濾裝置、EDR頻繁倒極電滲析裝置以及EWST電化學(xué)水處理裝置，有效的對原水中的雜質(zhì)以及循環(huán)水雜質(zhì)進(jìn)行處理，進(jìn)而達(dá)到達(dá)至降硬、阻垢、殺菌的目的。?? |
