一種旋轉裝置及晶圓外延設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202123319246.X 申請日 -
公開（公告）號 CN216585314U 公開（公告）日 2022-05-24
申請公布號 CN216585314U 申請公布日 2022-05-24
分類號 C30B25/12（2006.01）I;C30B25/14（2006.01）I;H01J37/32（2006.01）I 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 黃帥帥;肖蘊章;鐘國仿;王澤樺;劉亮輝;楊方;徐鑫;經(jīng)軍輝;劉佳明;陳炳安 申請（專利權）人 深圳市納設智能裝備有限公司
代理機構 北京超凡宏宇專利代理事務所（特殊普通合伙） 代理人 -
地址 518000廣東省深圳市光明區(qū)鳳凰街道鳳凰社區(qū)觀光路招商局光明科技園A6棟1B
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型提供一種旋轉裝置及晶圓外延設備，屬于半導體生產(chǎn)輔助設備領域。該旋轉裝置包括殼體、發(fā)熱層、旋轉組件及托盤；殼體具有中空的容腔，且開設有與容腔相連通的反應氣體入口和出氣口；發(fā)熱層設置于容腔的底部，且開設有旋轉氣體通道；旋轉組件轉動地設置于所述發(fā)熱層上，托盤設置于旋轉組件上，用于放置晶圓。本實用新型提供的旋轉裝置，從旋轉氣體通道進入的氣流能夠驅動旋轉組件轉動，參與反應的氣體從反應氣體入口流入，在晶圓表面發(fā)生化學氣相沉積的過程中，由于晶圓始終處于旋轉的狀態(tài)，晶圓表面的各位置發(fā)生反應的概率更為接近，有利于形成良好的外延層。