一種鍍膜設(shè)備
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111597018.0 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN114717653A | 公開(公告)日 | 2022-07-08 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN114717653A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-07-08 |
分類號(hào) | C30B25/14(2006.01)I;C30B25/18(2006.01)I;C30B29/36(2006.01)I | 分類 | 晶體生長(zhǎng)〔3〕; |
發(fā)明人 | 經(jīng)軍輝;肖蘊(yùn)章;黃帥帥;陳炳安;鐘國(guó)仿 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 深圳市納設(shè)智能裝備有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京超凡宏宇專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | - |
地址 | 518000廣東省深圳市光明區(qū)鳳凰街道鳳凰社區(qū)觀光路招商局光明科技園A6棟1B | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種鍍膜設(shè)備,涉及化學(xué)氣相沉積技術(shù)領(lǐng)域。鍍膜設(shè)備包括殼體、機(jī)械手腔體、反應(yīng)室、氣路組件和驅(qū)動(dòng)組件;殼體與機(jī)械手腔體相連,殼體上接有柔性管道;反應(yīng)室位于殼體內(nèi),反應(yīng)室朝向機(jī)械手腔體的一側(cè)設(shè)有進(jìn)氣通道;氣路組件穿設(shè)于柔性管道內(nèi),并與柔性管道密封連接,氣路組件位于反應(yīng)室朝向機(jī)械手腔體的一側(cè);驅(qū)動(dòng)組件與氣路組件相連。鍍膜設(shè)備將氣路組件和機(jī)械手腔體設(shè)置在反應(yīng)室的同一側(cè),不影響機(jī)械手取放反應(yīng)室內(nèi)的物品,在維護(hù)時(shí)僅需將殼體遠(yuǎn)離機(jī)械手腔體的一端打開,即可取出反應(yīng)室內(nèi)部的零件進(jìn)行打磨清洗,有效地降低了維護(hù)的總耗時(shí)。此外,機(jī)械手不經(jīng)過副反應(yīng)產(chǎn)物聚集區(qū),避免疏松的副反應(yīng)產(chǎn)物掉落在晶圓表面,提高產(chǎn)品良率。 |
