一種石墨烯納米窄帶及其制備方法和用途
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110236329.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN112850695A | 公開(公告)日 | 2021-05-28 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112850695A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-05-28 |
分類號(hào) | C01B32/184(2017.01)I | 分類 | 無(wú)機(jī)化學(xué); |
發(fā)明人 | 翁千越 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 上海賽普瑞特生物科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 高燕;許亦琳 |
地址 | 200123上海市浦東新區(qū)中國(guó)(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)臨港新片區(qū)?;?0弄1號(hào)101-03室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種石墨烯納米窄帶及其制備方法和用途,所述石墨烯納米窄帶的制備方法包括:1)聚乙烯醇納米絲膜制備:采用8wt%~15wt%的聚乙烯醇水溶液或聚乙烯醇乙醇溶液為紡絲液采用靜電紡絲技術(shù)形成聚乙烯醇納米纖維膜;2)對(duì)聚乙烯醇納米纖維膜碳化:在聚乙烯醇納米纖維膜上添加催化劑,然后在惰性氣體氛圍和400~500℃下處理至少2h;然后酸洗,再水洗形成碳化膜;3)石墨化:碳化膜在惰性氣體氛圍和1250~1350℃下處理至少3h。本發(fā)明技術(shù)方案形成的石墨烯納米窄帶是條帶結(jié)構(gòu),具有的優(yōu)良的單向?qū)щ娦院蛦蜗驅(qū)嵝?,避免了二維石墨烯的平面堆垛帶來(lái)的穩(wěn)定性差的缺陷,有望用于集成電路中作為具有超導(dǎo)特性的導(dǎo)線。?? |
