一種掩模版、運(yùn)動(dòng)臺(tái)定位誤差補(bǔ)償裝置及補(bǔ)償方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201910152262.2 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN111624856B 公開（公告）日 2021-10-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN111624856B 申請(qǐng)公布日 2021-10-15
分類號(hào) G03F7/20（2006.01）I;G03F9/00（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 吳麗麗 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 孟金喆
地址 201203上海市浦東新區(qū)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)張東路1525號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種掩模版、運(yùn)動(dòng)臺(tái)定位誤差補(bǔ)償裝置及補(bǔ)償方法。所述掩模版包括測量標(biāo)記；所述測量標(biāo)記包括至少一個(gè)測量單元，所述測量單元包括兩個(gè)標(biāo)記組，所述標(biāo)記組包括X向標(biāo)記和Y向標(biāo)記，所述X向標(biāo)記包括至少一個(gè)X向光柵和X向定位標(biāo)記，所述Y向標(biāo)記包括至少一個(gè)Y向光柵和Y向定位標(biāo)記；所述兩個(gè)標(biāo)記組包括第一標(biāo)記組和第二標(biāo)記組，所述第一標(biāo)記組定位的中心為第一中心，所述第二標(biāo)記組定位的中心為第二中心，所述測量標(biāo)記順時(shí)針或逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)90°后，所述第一中心與未旋轉(zhuǎn)前所述第二中心重合。本發(fā)明實(shí)施例提供的技術(shù)方案，實(shí)現(xiàn)了運(yùn)動(dòng)臺(tái)高階形變的校正，且可適用于在線周期性校準(zhǔn)。