一種氣浴裝置及光刻機(jī)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201811158115.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN110966916B 公開(kāi)（公告）日 2021-10-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN110966916B 申請(qǐng)公布日 2021-10-15
分類號(hào) G01B9/02（2006.01）I 分類 測(cè)量；測(cè)試;
發(fā)明人 李先明 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京品源專利代理有限公司 代理人 胡彬
地址 201203上海市浦東新區(qū)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)張東路1525號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開(kāi)了一種氣浴裝置及光刻機(jī)，屬于光刻機(jī)技術(shù)領(lǐng)域。該氣浴裝置包括進(jìn)風(fēng)口、處理腔和出風(fēng)口，所述出風(fēng)口包括第一通道組和第二通道組，所述第一通道組和所述第二通道組朝靠近干涉儀方向依次設(shè)置，其中，所述第一通道組的氣浴方向與水平面的夾角V大于所述第二通道組的氣浴方向與水平面的夾角W。光刻機(jī)包括上述氣浴裝置。本發(fā)明通過(guò)設(shè)置氣浴方向不同的第一通道組和第二通道組，實(shí)現(xiàn)對(duì)干涉儀中的測(cè)量光路和參考光路進(jìn)行吹掃，使得干涉儀的參考光路也處于氣浴溫控區(qū)，保證了干涉儀測(cè)量結(jié)果的精確性。