一種二維微機(jī)械雙向扭轉(zhuǎn)鏡陣列及其制作方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202111541499.3 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN114408854A 公開(kāi)（公告）日 2022-04-29
申請(qǐng)公布號(hào) CN114408854A 申請(qǐng)公布日 2022-04-29
分類號(hào) B81B7/04（2006.01）I;B81B7/00（2006.01）I;B81C1/00（2006.01）I;G02B26/08（2006.01）I 分類 微觀結(jié)構(gòu)技術(shù)〔7〕;
發(fā)明人 虞益挺;肖星辰;董雪 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 西北工業(yè)大學(xué)寧波研究院
代理機(jī)構(gòu) 寧波甬致專利代理有限公司 代理人 高瑞霞
地址 315000浙江省寧波市高新區(qū)清逸路218弄A3棟5樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種二維微機(jī)械雙向扭轉(zhuǎn)鏡陣列及其制作方法，二維微機(jī)械雙向扭轉(zhuǎn)鏡陣列包括電極基底以及設(shè)置在電極基底上的微鏡單元，微鏡單元包括微鏡支撐結(jié)構(gòu)層、通孔電極基底以及鏡面結(jié)構(gòu)層，微鏡支撐結(jié)構(gòu)層包括錨點(diǎn)、扭轉(zhuǎn)梁、第一下電極以及第二下電極，通孔電極基底包括第一通孔電極、第二通孔電極以及第三通孔電極，第一通孔電極與第一下電極貼觸，第二通孔電極與第二下電極貼觸，所述第三通孔電極與錨點(diǎn)貼觸，鏡面結(jié)構(gòu)層包括鏡面以及鏡面支撐結(jié)構(gòu)，扭轉(zhuǎn)梁通過(guò)其兩端的錨點(diǎn)支撐并懸置于通孔電極基底上方，第一下電極和第二下電極關(guān)于扭轉(zhuǎn)梁對(duì)稱分布，改善了微鏡陣列在光譜成像系統(tǒng)中的光場(chǎng)匹配性，簡(jiǎn)化了系統(tǒng)光路，促進(jìn)了光譜成像系統(tǒng)小型化。