一種新型蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201220164878.5 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN202576568U | 公開(公告)日 | 2012-12-05 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN202576568U | 申請(qǐng)公布日 | 2012-12-05 |
分類號(hào) | C23F1/46(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 趙榮進(jìn);彭發(fā)初;朱新芳;趙健兵;盧俊坤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 長(zhǎng)沙綠銥環(huán)保科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 南昌新天下專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人 | 謝德珍 |
地址 | 410000 湖南省長(zhǎng)沙市長(zhǎng)沙高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)火炬城M7-1C5基地 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種新型蝕刻液循環(huán)再生系統(tǒng)包括PCB廢液收集室、廢蝕刻液收集室、再生系統(tǒng)、添加劑室、攪拌系統(tǒng)、檢驗(yàn)室、氨水添加室、回收室、再生子液收集室、靜止室、蝕刻子液收集室、蝕銅收集室和成品收集室,所述PCB廢液收集室、廢蝕刻液收集室、再生系統(tǒng)通過管道依次連通,至少兩個(gè)再生系統(tǒng)并聯(lián)在一起,所述再生系統(tǒng)、添加劑室、檢驗(yàn)室、蝕刻子液收集室通過管道依次連通,所述氨水添加室分別與添加劑室、檢驗(yàn)室、回收室、靜止室通過管道連通,所述再生系統(tǒng)、再生子液收集室、靜止室通過管道依次連通,本實(shí)用新型設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,使用方便,可以有效地降低生產(chǎn)線建設(shè)成本,節(jié)約生產(chǎn)時(shí)的能源消耗,節(jié)省工廠車間的占地面積。 |
