一種具有清洗功能的晶圓研磨設(shè)備
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201921762462.1 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN211163353U | 公開(公告)日 | 2020-08-04 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN211163353U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-08-04 |
分類號(hào) | B24B27/00(2006.01)I | 分類 | - |
發(fā)明人 | 陸孫華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 蘇州英爾捷微電子股份有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京輕創(chuàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 蘇州英爾捷微電子股份有限公司 |
地址 | 215228江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)唯亭雙馬街2號(hào)星華產(chǎn)業(yè)園19-2號(hào)廠房 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種具有清洗功能的晶圓研磨設(shè)備,包括頂板、漏斗盤、連接擋板、水箱外殼和噴水件,頂板通過第二伸縮柱與第三支撐桿固定連接,第三支撐桿與水箱外殼固定連接,水箱外殼與連接擋板固定連接,水箱外殼的內(nèi)腔中濾水件的右側(cè)為凈水腔,凈水腔內(nèi)放置有潛水泵,潛水泵通過第一水管與連接水管底座相互連通,連接水管底座通過第一水管與噴水件相互連通,連接擋板通過第一支撐桿與漏斗盤固定連接。本實(shí)用新型解決了只能對(duì)單一的晶圓進(jìn)行加工研磨,以及在放置晶圓時(shí)往往存在偏差錯(cuò)位,進(jìn)而導(dǎo)致吸板不能將晶圓牢牢吸緊,在研磨時(shí)晶圓容易拋飛,同時(shí)傳統(tǒng)的晶圓研磨設(shè)備只能進(jìn)行簡單的沖洗,并不能有效的對(duì)晶圓表面進(jìn)行清洗的問題。?? |
