光刻方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201810994609.3 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN110865520B 公開（公告）日 2022-03-18
申請(qǐng)公布號(hào) CN110865520B 申請(qǐng)公布日 2022-03-18
分類號(hào) G03F9/00（2006.01）I 分類 攝影術(shù)；電影術(shù)；利用了光波以外其他波的類似技術(shù)；電記錄術(shù)；全息攝影術(shù)〔4〕;
發(fā)明人 黃濤 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 晶能光電股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 330096江西省南昌市高新開發(fā)區(qū)艾溪湖北路699號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種光刻方法，包括：提供半導(dǎo)體晶圓，在所述半導(dǎo)體晶圓上形成光刻膠層；基于光刻板表面的對(duì)位標(biāo)記將半導(dǎo)體晶圓與光刻板對(duì)齊，所述光刻板中還包括一用于隔離圖形區(qū)域和非圖形區(qū)域的標(biāo)記位；對(duì)半導(dǎo)體晶圓表面的光刻膠層進(jìn)行曝光和顯影，以圖形化所述光刻膠層。在光刻的過程中，通過該標(biāo)記位將處于晶圓邊緣的非圖形區(qū)域中的光刻膠與圖形區(qū)域隔離，保證晶圓最外圈圖形的一致性，提升產(chǎn)品良率。