一種多容值芯片電容器
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202120770352.0 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN214705734U | 公開(公告)日 | 2021-11-12 |
申請公布號 | CN214705734U | 申請公布日 | 2021-11-12 |
分類號 | H01G4/30(2006.01)I;H01G4/12(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 熊珊;吳浩;彭高東;何培統(tǒng);張浩天;席生 | 申請(專利權(quán))人 | 廣州創(chuàng)天電子科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 廣州市百拓共享專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 劉靜 |
地址 | 510000廣東省廣州市黃埔區(qū)來安一街8號之一 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型提供一種多容值芯片電容器,包括一介質(zhì)層,所述介質(zhì)層的上側(cè)面及與所述上側(cè)面對應(yīng)的下側(cè)面分別形成有上金屬層和下金屬層,所述下金屬層與所述上金屬層均包括從所述介質(zhì)層向外延伸依次設(shè)置的一TaN防擴(kuò)散層、一TiW/Ti粘結(jié)層及一Ni阻隔層,所述上金屬層遠(yuǎn)離所述介質(zhì)層的一側(cè)形成有不同容值的上電極,所述下金屬層遠(yuǎn)離所述介質(zhì)層的一側(cè)形成有下電極。本實(shí)用新型通過將多容值電極集合設(shè)置在單介質(zhì)層上,使單一電容器具備多電容值性能,解決現(xiàn)有技術(shù)中單電容器無法適應(yīng)多電容值需要的問題。并通過結(jié)構(gòu)、尺寸與性能的優(yōu)配,使得到的多容值芯片電容器具備優(yōu)良的性能,滿足人們需求,實(shí)用性高。 |
