一種直拉式單晶硅生產(chǎn)方法和裝置及系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202011124876.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN112226812A 公開（公告）日 2021-01-15
申請(qǐng)公布號(hào) CN112226812A 申請(qǐng)公布日 2021-01-15
分類號(hào) C30B15/26;C30B29/06;G06T7/11;G06T7/136;G06T7/187;G06T7/60 分類 晶體生長(zhǎng)〔3〕;
發(fā)明人 嚴(yán)超;司澤;陳俊良;李志軒 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京圖知天下科技有限責(zé)任公司
代理機(jī)構(gòu) 北京細(xì)軟智谷知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 代理人 北京圖知天下科技有限責(zé)任公司
地址 100089 北京市海淀區(qū)中關(guān)村東路66號(hào)1號(hào)樓5層0606
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種直拉式單晶硅生產(chǎn)方法和裝置及系統(tǒng)，屬于直拉式單晶硅生產(chǎn)領(lǐng)域，通過(guò)獲取導(dǎo)流筒出口包括液面和倒影的圖像，實(shí)時(shí)調(diào)整坩堝和導(dǎo)流筒間的距離，使熔融硅液面與導(dǎo)流筒間距離不變。本發(fā)明使用圖像測(cè)距的方案，無(wú)需使用硬件傳感器，成本較低。同時(shí)能保證相應(yīng)方法在不同設(shè)備條件下均能完成對(duì)距離的測(cè)量，無(wú)須對(duì)每個(gè)設(shè)備都進(jìn)行精細(xì)校準(zhǔn)調(diào)試。