一種氧化鎂靶材背板的氧化鋁涂層制備方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110746747.1 申請日 -
公開（公告）號 CN113416913A 公開（公告）日 2021-09-21
申請公布號 CN113416913A 申請公布日 2021-09-21
分類號 C23C4/134（2016.01）I;C23C4/11（2016.01）I;C23C14/35（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 王永超;居炎鵬;趙澤良;仝紅巖;王留土;鄭海強;史豪杰;陳耘田;郭利樂;劉占軍;李偉 申請（專利權）人 河南東微電子材料有限公司
代理機構 鄭州浩翔專利代理事務所（特殊普通合伙） 代理人 李偉
地址 450000河南省鄭州市航空港區(qū)新港大道與人民路交叉口智能終端手機產業(yè)園B區(qū)12號樓1、2層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種氧化鎂靶材背板的氧化鋁涂層制備方法，步驟包括：將氧化鎂靶材濺射面、背板非噴涂面均用耐高溫布包裹保護；清洗噴涂的部位；對噴涂部位進行噴砂處理；再次清洗噴涂部位；等離子噴涂工藝進行氧化鋁噴涂；氧化鋁涂層進行磨削拋光處理。本發(fā)明的氧化鋁涂層能在磁控濺射中保護氧化鎂靶材和背板，能有效避免焊接層料因發(fā)熱而受損影響磁控濺射，延長氧化鎂靶材使用壽命，對降低鍍膜不良率，提高成膜質量起著至關重要作用。