一種直拉單晶硅爐熱場的三相交流加熱器及其加熱方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110941930.7 申請日 -
公開（公告）號 CN113737272A 公開（公告）日 2021-12-03
申請公布號 CN113737272A 申請公布日 2021-12-03
分類號 C30B15/14（2006.01）I;C30B29/06（2006.01）I 分類 晶體生長〔3〕;
發(fā)明人 潘金平;肖世豪;沈益軍;張立安;饒偉星;王偉棱;鄭春松;馮小娟;蘇文霞 申請（專利權(quán)）人 浙江海納半導(dǎo)體股份有限公司
代理機構(gòu) 溫州青科專利代理事務(wù)所（特殊普通合伙） 代理人 錢磊
地址 324300浙江省衢州市開化縣華埠鎮(zhèn)萬向路5號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于直拉單晶爐熱場技術(shù)領(lǐng)域，具體的說是一種直拉單晶硅爐熱場的三相交流加熱器及其加熱方法，包括加熱器本體和連接環(huán)，所述加熱器本體包括三個弧形加熱板，且三個弧形加熱板能夠拼接成完整的圓筒，所述弧形加熱板的底部固連有引腳，所述弧形加熱板底部兩側(cè)位置均開設(shè)有插槽。本發(fā)明通過設(shè)有推動裝置，當坩堝長期使用發(fā)生變形或?qū)χ信芷约笆軣崤蛎洉r，坩堝的外壁會與推動裝置接觸，從而使得推動裝置帶動其兩側(cè)的偏轉(zhuǎn)裝置進行工作，當偏轉(zhuǎn)裝置工作時，弧形加熱板在偏轉(zhuǎn)裝置的作用下向遠離坩堝的方向運動，從而使得弧形加熱板與坩堝之間的距離始終能夠保持不變，進而避免了弧形加熱板因坩堝的擠壓而損壞。