二維材料垂直生長(zhǎng)的硅片反應(yīng)轉(zhuǎn)移裝置
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202011355450.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN112490161A | 公開(公告)日 | 2021-03-12 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN112490161A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-03-12 |
分類號(hào) | H01L21/673(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 于葛亮;康斯坦丁·諾沃舍洛夫;楊金東;孫正乾;唐陽(yáng);王楊華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 無(wú)錫墨諾半導(dǎo)體科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 無(wú)錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 曹祖良;涂三民 |
地址 | 214174江蘇省無(wú)錫市惠山經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)堰新路311號(hào)1號(hào)樓1023室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及一種二維材料垂直生長(zhǎng)的硅片反應(yīng)轉(zhuǎn)移裝置,包括硅片座與壓蓋;在所述硅片座的側(cè)面開設(shè)有夾持凹槽,在硅片座的上端面設(shè)有呈多邊形形狀的硅片放置凹腔;所述壓蓋套在硅片座的上端,在對(duì)應(yīng)硅片放置凹腔位置的壓蓋上開設(shè)有壓蓋孔,所述硅片放置凹腔的邊角位于壓蓋孔之外。本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便,偏于更換轉(zhuǎn)移硅片,在抽真空和噴淋時(shí),由于壓蓋壓住硅片,硅片不會(huì)脫落。?? |
