蒸發(fā)鍍膜機(jī)及波分復(fù)用器件

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202022826034.X 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN213803961U 公開（公告）日 2021-07-27
申請(qǐng)公布號(hào) CN213803961U 申請(qǐng)公布日 2021-07-27
分類號(hào) C23C14/24（2006.01）;C23C14/54（2006.01）;G01B11/06（2006.01） 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 李鑫;王之琦;龔渤 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 江蘇永鼎光電子技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州睿昊知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 馬小慧
地址 215200 江蘇省蘇州市吳江區(qū)黎里鎮(zhèn)318國(guó)道74K處蘆墟段北側(cè)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種蒸發(fā)鍍膜機(jī)及波分復(fù)用器件，包括鍍膜腔室；白光直接測(cè)量模組，其以白光為光源在線測(cè)量薄膜的厚度；激光直接測(cè)量模組，其以激光為光源在線測(cè)量薄膜的厚度；所述白光直接測(cè)量模組和激光直接測(cè)量模組的其中之一安裝在所述鍍膜腔室內(nèi)。本實(shí)用新型的蒸發(fā)鍍膜機(jī)及波分復(fù)用器件，通過更換使用白光直接測(cè)量模組或者激光直接測(cè)量模組可以滿足多種測(cè)試需求：在測(cè)量精度要求較低、而要求測(cè)量效率較高（比如，批量化生產(chǎn)薄膜）時(shí)，使用白光直接測(cè)量模組；在測(cè)量精度要求較高、而要求測(cè)量效率較低（比如，研發(fā)階段、小批量階段生產(chǎn)薄膜）時(shí)，使用激光直接測(cè)量模組。