一種用于芯片加工的低溫氧化裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202121379363.2 申請日 -
公開（公告）號 CN215266250U 公開（公告）日 2021-12-21
申請公布號 CN215266250U 申請公布日 2021-12-21
分類號 H01L21/687（2006.01）I;H01L21/67（2006.01）I;H01J37/32（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 李璇 申請（專利權）人 江蘇永鼎光電子技術有限公司
代理機構 東莞市神州眾達專利商標事務所（普通合伙） 代理人 劉漢民
地址 212511江蘇省蘇州市吳江區(qū)黎里鎮(zhèn)來秀路新黎路113號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種用于芯片加工的低溫氧化裝置，包括底座，所述底座的頂端固定安裝有等離子體腔，所述等離子體腔的左端固定安裝有一端貫穿并延伸至等離子體腔內(nèi)部的氣體管道，所述氣體管道的頂端相連通有位于等離子體腔外側的氣體流量器，所述氣體管道的右端相連通有位于等離子體腔內(nèi)部的汽體均分器，所述等離子體腔的內(nèi)腔底端固定安裝有數(shù)量為四個的支撐桿，四個所述支撐桿的頂端均與安裝框相固定連接，安裝框的頂端呈開口設置，所述等離子體腔的右端固定安裝有真空泵，所述真空泵的輸出端貫穿并延伸至等離子體腔的內(nèi)部，所述安裝框的內(nèi)腔前側壁固定安裝有電動推桿。該用于芯片加工的低溫氧化裝置，具備氧化均勻的優(yōu)點。