圍壩層的拋光方法及圍壩和陶瓷基板

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110570762.5 申請日 -
公開（公告）號 CN113380633A 公開（公告）日 2021-09-10
申請公布號 CN113380633A 申請公布日 2021-09-10
分類號 H01L21/48（2006.01）I;B24B29/02（2006.01）I;B24B49/00（2012.01）I;H01L23/02（2006.01）I;H01L23/15（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 陳文陽;羅玉杰;于正國 申請（專利權(quán)）人 賽創(chuàng)電氣（銅陵）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 銅陵市嘉同知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 吳晨亮
地址 244000安徽省銅陵市經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)天門山北道3129號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了圍壩層的拋光方法及圍壩和陶瓷基板，包括以下步驟：對圍壩層進(jìn)行補充電鍍，將補充電鍍后的圍壩層基板正面朝上，基板背面嵌入無蠟墊內(nèi)，使用游星輪進(jìn)行兩次拋光，每次拋光的高速階段轉(zhuǎn)速為28rpm，得到整平效果合格的圍壩層。本發(fā)明的有益效果是通過對拋光工藝的改進(jìn)，采用游星輪+無蠟墊的方式以及對拋光轉(zhuǎn)速的調(diào)整可以實現(xiàn)對圍壩正面的合格拋光。